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  • 更新时间:2024-06-05    访问量:4112

    热诱导化学气相沉积是用于各种电介质,半导体和金属材料的保护涂层的沉积的有力方式,无论是单晶,多晶,无定形或外延状态上或大或小的形态。典型的涂层材料包括热解碳,碳化硅,氮化硼。通过使用合成前体,涂层非常纯净并目满足半导体工业的典型要求,根据工艺参数,可以有多种层厚度,从单个或几个原子层到厚度从10纳米到数百微米的固体保护层或功能层,以及厚度达100微米的单片部件,甚至高达数毫米。

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  • 电话:13311665350

  • 邮箱:service@haoyue-group.com

  • 地址:上海市嘉定区嘉松北路7301号B2栋

  • 工厂:江苏省南通市通州区聚丰科创产业园1号厂房

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